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X 螢光射線膜厚分析儀是利用 XRF 原理來分析測(cè)量金屬厚度及物質(zhì)成分，可用於材料的涂層 / 鍍層厚度、材料組成和貴金屬含量檢測(cè)。
應(yīng)用在測(cè)量許多經(jīng)典結(jié)構(gòu)的鍍層厚度，包括鎳上鍍金（Au/Ni）,環(huán)氧樹脂鍍銅（Cu/epoxy），光致抗蝕劑photoresist，銅上鍍銀（Ag/Cu），科瓦鐵...
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